技術(shù)編號：6037797
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及到一種位移工作臺，具體地說，是一種二維位移工作臺，該工作臺可實(shí)現(xiàn)X與Y向的寬范圍、超精密位移定位。本發(fā)明的目的在于提供一種能克服上述缺陷的二維位移工作臺，用于在X、Y兩方向上進(jìn)行超精密定位。該工作臺可用在半導(dǎo)體與超精密加工的光刻技術(shù)、微制造、表面形貌測量及超精密級坐標(biāo)測量等方面。其工作范圍大、定位速度快、定位精度高。為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的，一種二維位移工作臺，包括粗定位工作臺、細(xì)定位工作臺、位置檢測裝置和信號處理與控制電路，其特征在于所述粗定位工作臺...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。