技術(shù)編號(hào)：6019967
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種全新的發(fā)射光譜儀，即一種基于“光子計(jì)數(shù)成像探測(cè)器”的光子計(jì)數(shù)全譜直讀發(fā)射光譜儀。本發(fā)明特別適用于原子(元素)、分子、離子以及其它物質(zhì)成分的痕量或超痕量分析，可廣泛的應(yīng)用于環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品安全、生物光學(xué)、冶金化工、地質(zhì)勘探以及醫(yī)藥衛(wèi)生等眾多行業(yè)與學(xué)科。背景技術(shù)發(fā)射光譜是指處于激發(fā)態(tài)的原子或分子躍遷到基態(tài)或較低激發(fā)態(tài)時(shí)產(chǎn)生輻射，輻射的強(qiáng)度按頻率或波長分布的集合。研究發(fā)射光譜的特征和規(guī)律可以了解原子或分子的能級(jí)結(jié)構(gòu)、運(yùn)動(dòng)狀態(tài)以及原子或分子同電磁場(chǎng)或粒...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。