技術(shù)編號：6010519
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光學元器件，尤其是涉及一種薄膜殘余應力分離和測量裝置。背景技術(shù)幾乎所有的薄膜都存在應力，光學薄膜的應力研究在薄膜器件的設(shè)計和使用中占有重要的地位。薄膜應力的存在直接影響薄膜器件的成品率，張應力過大會引起薄膜破裂，而壓應力過大則會導致薄膜卷曲和剝落。從器件整體上講，殘余應力又影響著光學器件表面面形，在使用中引起入射反射波前畸變，影響器件的光學性能。對于蒸發(fā)沉積制備的薄膜，受較低的沉積粒子表面動能(< 300meV)和沉積溫度(通常在20°C到...
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