技術(shù)編號(hào)：6002876
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于測量距離的電容式傳感器(capacitive sensor),特別是用于在光刻設(shè)備(lithography apparatus)中測量距祀材(target)的距離的電容式傳感器。背景技術(shù)帶電微粒以及光學(xué)光刻機(jī)器和檢查機(jī)器(inspection machine)用于將圖案曝顯于晶圓和其他靶材之上，這典型地是半導(dǎo)體裝置制造流程的一部分。在光刻系統(tǒng)之中，通常藉由光刻機(jī)器所發(fā)出的光學(xué)或微粒曝光射束針對(duì)晶圓的多個(gè)位置進(jìn)行曝光。晶圓通常置放在晶圓固定...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。