技術(shù)編號：5996809
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造，特別涉及一種測距器及化學(xué)氣相沉積設(shè)備。背景技術(shù)化學(xué)氣相沉積(Chemical Vapor Deposition, CVD)是利用化學(xué)反應(yīng)的方式，反應(yīng)氣體通過氣管，從帶有多孔的噴淋頭(Shower Head)上噴射出來,反應(yīng)氣體在噴淋頭和加熱器(Heater)之間的空間中被電解離成氣漿。氣漿中的離子會在置于加熱器上的晶圓表面聚合形成固態(tài)生成物，從而在晶圓表面的形成一種薄膜沉積技術(shù)。反應(yīng)氣體經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展，化學(xué)氣相沉積已經(jīng)成為目前半導(dǎo)體...
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