技術(shù)編號(hào)：5952772
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及材料制備和光譜分析，尤其涉及一種原位顯微拉曼表征系統(tǒng)。背景技術(shù)石墨插層化合物是在石墨的石墨烯層間插入原子或分子層的一種化合物。由于其在結(jié)構(gòu)、電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)方面具有獨(dú)特的特征，石墨插層化合物自1841年被發(fā)現(xiàn)以來就被廣泛地研究。它們被廣泛地應(yīng)用于電極、導(dǎo)體、超導(dǎo)體、催化劑、電池等領(lǐng)域。 最近石墨烯的發(fā)現(xiàn)和物理研究獲得了諾貝爾物理學(xué)獎(jiǎng)，因此，能否將石墨烯片插入其它原子或分子層而形成石墨烯片插層化合物，就是一個(gè)十分重要的問題。如果能制備，有什么簡(jiǎn)便的方...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。