技術(shù)編號(hào)：5949672
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種激光干 涉儀測(cè)量裝置，特別涉及一種利用干涉儀測(cè)量硅片臺(tái)多自由度位移的裝置。背景技術(shù)在光刻機(jī)系統(tǒng)中，硅片臺(tái)是用于承載硅片做步進(jìn)掃描運(yùn)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)平臺(tái)，光刻機(jī)的產(chǎn)率和套刻精度決定了硅片臺(tái)高速、高加速、大行程、超精密的運(yùn)動(dòng)特點(diǎn)。硅片臺(tái)六自由度位移的測(cè)量通常采用激光干涉儀測(cè)量系統(tǒng)。定義坐標(biāo)系水平方向?yàn)棣窒蚝蛓向，垂向?yàn)棣葡?，繞χ、y、ζ向的轉(zhuǎn)動(dòng)分別為Rx、Ry、Rz。娃片臺(tái)六自由度位移中，χ向和y向線性位移很大，ζ向線性位移和轉(zhuǎn)角位移卻很小。硅片臺(tái)六自由...
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