技術(shù)編號(hào):5943638
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體,特別涉及一種。背景技術(shù)射頻功率是高密度等離子體沉積工藝中一個(gè)重要的參數(shù),在工藝運(yùn)行中確定準(zhǔn)確的射頻功率是必要的,不同的射頻功率會(huì)帶來(lái)不同的沉積性能。射頻發(fā)生器的功率可以用功率校準(zhǔn)工具(RF calibration tool)來(lái)檢測(cè),所述功率校準(zhǔn)工具包括探頭(sensor head)、功率計(jì)(power meter)和虛擬負(fù)載(dummy load)。所述探頭一端連接射頻發(fā)生器,另一端連接虛擬負(fù)載,所述功率計(jì)連接探頭用于觀察射頻功率,虛擬負(fù)...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。