技術(shù)編號：5940503
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種氣浮塊等高測試裝置，用于光刻機中H型大行程高精度工件臺運動所需的氣浮塊安裝前的等高測試。背景技術(shù)光刻機是微制造IC領(lǐng)域的一項關(guān)鍵設(shè)備，工件臺的運動性能直接關(guān)系到芯片的光刻質(zhì)量。如圖1所示，H型大行程高精度的工件臺主要包括長行程精密導(dǎo)軌I ‘，工字形運動模塊2 ‘以及工字形運動模塊兩端的球關(guān)節(jié)氣浮塊a。在H型大行程高精度工件臺中，工字形運動模塊2 ‘兩端經(jīng)多塊、多組球關(guān)節(jié)氣浮塊a緊貼長行程精密導(dǎo)軌I ‘，運行中以氣膜為媒介使運動模塊相對精密導(dǎo)軌...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。