技術(shù)編號：5871390
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及雙光子材料的吸收截面測量領(lǐng)域，具體地來說為一種雙光子吸收截面譜儀。背景技術(shù)具有大的雙光子吸收截面的材料目前已被廣泛用于雙光子熒光顯微成像、光學(xué)限幅、三維光信息存儲及光子晶體微加工等領(lǐng)域，關(guān)于雙光子吸收截面的測量方法也開展了大量的研究工作。在過去四十多年中，已報道了多種雙光子吸收截面測量方法，包括非線性透過率法(Nonlinear Transmission, NLT)> Z-掃描法、雙光子誘導(dǎo)突光法(Two-photonInduced F...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。