技術編號：5845275
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及納米圖案加工，尤其涉及一種掃描電鏡放大倍率校準標準樣品的制 作方法。背景技術半導體制造業(yè)中所進行的檢測在很大程度上是依賴掃描電子顯微鏡(Sca皿ing Electron Microscope, SEM)進行的。目前大多數(shù)掃描電子顯微鏡都有放大倍率的顯示，并 且還配備有微米、納米級的刻度條，這些數(shù)據(jù)都被記錄在相應的圖像文件中。測量數(shù)值可以 從圖象、顯微照片或數(shù)字測量系統(tǒng)上直接得出。測量的精度取決于許多因素，其中很重要的 一個因素就是SEM的放大倍率...
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