技術(shù)編號(hào)：5836612
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光學(xué)，涉及一種光譜分析裝置，特別是一種連 續(xù)鎖模近場(chǎng)光腔衰蕩光譜分析裝置。主要用于流體、薄膜、界面、納米 物質(zhì)等形態(tài)物質(zhì)的痕量濃度測(cè)試。背景技術(shù)在環(huán)境分析、生命科學(xué)、醫(yī)學(xué)醫(yī)療、國(guó)防安全、先進(jìn)制造工業(yè)等許 多領(lǐng)域存在大量的物質(zhì)痕量測(cè)量需求，并且對(duì)痕量物質(zhì)檢測(cè)靈敏度的要 求越來越高。腔衰蕩光譜分析技術(shù)由于具有檢測(cè)靈敏度高、絕對(duì)測(cè)量、 選擇性好等優(yōu)點(diǎn)，成為痕量物質(zhì)測(cè)量技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)之一。腔衰蕩光譜分 析技術(shù)多用來分析痕量氣體濃度和組分，近些年來，研究者也...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。