技術(shù)編號(hào):5836587
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種薄膜殘余應(yīng)力成分的分析裝置。 背景技術(shù)光學(xué)薄膜有廣泛的應(yīng)用,光學(xué)系統(tǒng)中所用的分束鏡、截止濾光片和帶通濾 光片等是由光學(xué)薄膜來(lái)實(shí)現(xiàn);此外光纖通信、激光光學(xué)中也用到大量的薄膜器 件;薄膜還廣泛應(yīng)用于信息存儲(chǔ)、半導(dǎo)體器件、光電顯示等領(lǐng)域。但幾乎所有 薄膜都存在著巨大的應(yīng)力,它對(duì)薄膜的性能,特別是牢固性產(chǎn)生很大威脅。因 此研究薄膜中的應(yīng)力有重大意義。從組成來(lái)說(shuō),薄膜中的應(yīng)力主要由本征應(yīng)力 (也稱內(nèi)應(yīng)力)、外應(yīng)力和熱應(yīng)力組成。本征應(yīng)力與薄膜的化學(xué)成分、...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。