技術編號：5835419
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種硅片表面的缺陷檢測方法。背景技術利用光學手段對硅片表面的缺陷檢測分為亮場和暗場光學探測兩種類型。請參閱 圖l，暗場光學探測是以入射光11照射硅片表面IO，入射光11與水平面成小角度。在硅 片表面10無缺陷的情況下，入射光11經硅片表面10全部反射出來形成反射光12，以垂線 角度所觀察的暗場影像13是全黑的。如果硅片表面10有缺陷100，入射光11照射到缺陷 100就會反射、折射出散射光14，散射光14經透鏡15匯聚到垂線方向上。以垂線角度所觀...
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