技術(shù)編號：5828165
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種測量光學薄膜厚度的裝置及方法。背景技術(shù)隨著薄膜技術(shù)和光電器件的廣泛應用，光學薄膜已廣泛應用于軍用和民用器件生產(chǎn)中。光學薄膜作為獨立于體材料存在的一種相，有著許多獨特的光學和電學性質(zhì)，這些性質(zhì)取決于光學薄膜制作工藝的同時，也與光學薄膜厚度密切相關(guān)，因此厚度測量對于光學薄膜材料的光學、電學性質(zhì)的研究十分重要。薄膜厚度是薄膜設計和工藝制造中的關(guān)鍵參數(shù)之一，隨著光電技術(shù)以及微電子技術(shù)的快速發(fā)展，薄膜的應用領(lǐng)域越來越廣，各種厚度只有幾百甚至數(shù)十納米的單...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。