技術編號：5284379
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型提供了一種電解池系統(tǒng)，包括被設置用于保留熔融電解液的電解池，所述電解液包括至少一種電解液成分，所述電解池包括底部和由所述至少一種電解液成分構成的側壁；以及進料系統(tǒng)，被設置用于向熔融電解液提供包括所述至少一種電解液成分的進料，以使所述至少一種電解液成分處于約2％的飽和度以內(nèi)，其中，側壁通過所述進料而在熔融電解液內(nèi)保持穩(wěn)定。本實用新型還提供了電解池和電解池組件。專利說明電解池、電解池系統(tǒng)和電解池組件[0001] 相關申請的交叉引用[0002] 本申請...
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