技術(shù)編號(hào)：5277005
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。背景技術(shù) 通過(guò)包括諸如金屬、介質(zhì)、半導(dǎo)體材料的化學(xué)氣相淀積(CVD)之類的淀積工藝；腐蝕工藝；以及光抗蝕劑清除工藝的各種工藝，來(lái)加工半導(dǎo)體襯底材料。等離子體腐蝕被常規(guī)地用來(lái)腐蝕金屬、介質(zhì)、以及半導(dǎo)體材料。發(fā)明內(nèi)容提供了處理半導(dǎo)體襯底加工裝置的碳化硅部件的各種方法、制作這些部件的各種方法、以及用這些方法處理的各種部件。這些方法從這些部件清除了例如石墨的自由碳，從而在等離子體加工室中加工半導(dǎo)體襯底的過(guò)程中降低了這些部件引起的半導(dǎo)體襯底的顆粒沾污。能夠被這些方法...
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