技術(shù)編號：5267278
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種非均勻厚度薄膜的制作方法，尤其涉及一種基于移動掩模原理和定向沉積原理來制備微/納尺度的多層浮雕結(jié)構(gòu)復合膜層的方法。 背景技術(shù)微/納元件尤其是微/納光學元件，在科研、軍事、民用等領(lǐng)域都具有巨大的應用 潛力，例如，應用于制作各種SPPs元器件、光學數(shù)據(jù)存儲、超分辨成像、SPPs納米光刻等方 面。包含多層浮雕結(jié)構(gòu)復合膜層的微/納元件的制備是研究的難點?，F(xiàn)有的制作方法能夠 刻蝕出單層浮雕結(jié)構(gòu)的膜層或沉積多層均勻厚度的膜層，不過很難制備多層非均勻厚度的...
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