技術(shù)編號：5267094
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體納米加工技術(shù)，尤其涉及一種在半導(dǎo)體材料上能夠 克服臨近效應(yīng)生成極限納米圖形的電子束曝光技術(shù)。背景技術(shù)半導(dǎo)體、納米器件技術(shù)的發(fā)展很大程度上依賴于微納米加工技術(shù)的不斷進(jìn) 步。隨著電子束曝光技術(shù)的普遍采用及不斷發(fā)展，目前對半導(dǎo)體材料的圖形加 工能力已經(jīng)達(dá)到納米量級。電子束曝光無需用到掩膜，可以通過軟件設(shè)計任意形狀的加工圖形，使用靈活方便；并且具有極精細(xì)的加工能力，目前己經(jīng)通過 該技術(shù)得到了 10nm的線條。然而由于電子臨近效應(yīng)的存在，采用電子...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。