技術編號：5265675
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及納米級高精度控制熱絲化學氣相沉積生長薄膜材料設備，特別是在三維空間上納米級的控制精度，適用于在極高溫(2000°C )背景下寬溫度范圍(-196 3000C )內(nèi)的納米級高精度控制。背景技術熱絲化學氣相沉積設備是當前工業(yè)化中廣泛應用于生長薄膜涂層與厚膜材料的設備，設備結構簡單、工藝較為成熟、制造技術要求不高、方便簡單操作、沉積面積大；但是在熱絲沉積設備中溫度場、等離子場、以及相應的沉積場，均是以鎢、鉭熱絲為軸心呈圓柱殼層分布，且沿圓柱的徑向...
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