技術(shù)編號(hào)：5265404
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新型的納米含能材料及其制備方法，特別是一種。背景技術(shù)日本的前田繁等人發(fā)明了焊盤部分和電橋部分由多組金屬層(T1、Zr、Au等)和金屬氧化物層(Si02、Ti02、Al203等)交替重疊(最上層為金屬層，最下層為金屬氧化物層)的半導(dǎo)體橋(中國(guó)專利CN200580033640.1)。該多層復(fù)合含能薄膜采用金屬濺射等金屬化沉積工藝制備，通過加熱金屬層，金屬在數(shù)微秒內(nèi)因超過沸點(diǎn)氣化并與金屬氧化物反應(yīng)從而產(chǎn)生細(xì)微爆炸形成火花。由于該多層復(fù)合含能薄膜的存在增...
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