技術(shù)編號：5131932
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及載置臺、基板處理裝置、等離子體處理裝置及其控制 方法。具體為涉及載置臺、基板處理裝置、等離子體處理裝置、載置 臺的控制方法、等離子體處理裝置的控制方法、控制程序以及記錄媒 體，特別是涉及載置半導(dǎo)體晶片等的被處理基板的載置臺。背景技術(shù)作為基板處理裝置等離子體處理裝置，為了制造半導(dǎo)體器件，在 作為被處理基板的半導(dǎo)體晶片上進行使用等離子體的蝕刻處理等的等 離子體處理。等離子體處理裝置具有進行等離子體處理用的處理室(腔室)，在 該腔室內(nèi)設(shè)有供給用于產(chǎn)生等...
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