技術(shù)編號(hào)：5060744
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及磁選分離裝置，特別涉及一種能夠有效地降低超導(dǎo)磁體磁場(chǎng)泄露而對(duì)附屬設(shè)備造成不利影響并有利于磁性物質(zhì)落下的具有磁場(chǎng)屏蔽罩的超導(dǎo)磁選連續(xù)分1 裝直O(jiān)背景技術(shù)如圖1所示，超導(dǎo)磁選連續(xù)分離裝置在工作時(shí)，磁分選皮帶2通過(guò)皮帶驅(qū)動(dòng)裝置3 驅(qū)動(dòng)，位于磁性物質(zhì)吸附段21的磁分選皮帶2位于被磁選物質(zhì)5上方且位于所述超導(dǎo)磁體 1的第一磁極下方，可以將被磁選物質(zhì)5中的磁性物質(zhì)吸附到磁分選皮帶2的下表面上，當(dāng)磁分選皮帶2繼續(xù)運(yùn)動(dòng)到磁性物質(zhì)脫附段22的時(shí)候，磁場(chǎng)強(qiáng)度減弱...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。