技術(shù)編號：5013521
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請要求保護(hù)臨時申請60/076,294(1998.2.27提交)的權(quán)利，該申請的全部內(nèi)容結(jié)合至此作為參考。本發(fā)明涉及用來自液體化學(xué)品的蒸汽飽和氣體的新系統(tǒng)及方法。本發(fā)明還涉及控制運(yùn)送汽化的液體化學(xué)品的新系統(tǒng)及方法。本發(fā)明特別適用于半導(dǎo)體制造工業(yè)。在半導(dǎo)體制造工業(yè)中，要將高純度氣體提供給加工工具來完成各種半導(dǎo)體制造工藝。這種工藝的實(shí)例包括擴(kuò)散、化學(xué)蒸汽淀積(CVD)、蝕刻、濺射和離子注入。已知使用揮發(fā)性液體作為這些工藝的反應(yīng)源。例如，這些液體包括硅烷(S...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。