技術(shù)編號(hào):4999815
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種氮?dú)獗Wo(hù)下的低溫反應(yīng)釜,主要用于化工和液晶合成領(lǐng)域。 背景技術(shù)在進(jìn)行液晶合成和化工領(lǐng)域的生產(chǎn)制備過(guò)程中,有些化學(xué)反應(yīng)的條件需要-80°C 至-100°c的范圍下進(jìn)行,同時(shí)有些化學(xué)反應(yīng)對(duì)空氣中的氧氣和水蒸汽比較敏感,需要一個(gè)無(wú)氧干燥的反應(yīng)條件,反應(yīng)的物料一旦在反應(yīng)過(guò)程中接觸到了氧氣和水,就會(huì)出現(xiàn)其它的副產(chǎn)品,影響產(chǎn)品的質(zhì)量和收率?,F(xiàn)有的反應(yīng)釜制冷方式一般由制冷機(jī)組降溫制冷劑,然后將制冷劑送入反應(yīng)釜夾套內(nèi)與釜內(nèi)反應(yīng)物質(zhì)進(jìn)行熱交換,到達(dá)合適的反...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。