技術(shù)編號：4994477
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體元器件等的制造工藝中用作清洗液或浸漬液的溶氫水制造設(shè)備。大規(guī)模集成電路元器件大部分是在硅基板上做成的，該制造工藝大體為如下的工序。即在高溫擴散爐中使表面研磨成鏡面狀的硅片表面上生成氧化膜的氧化工序；在絕緣膜一面上涂敷光致抗蝕劑(感光劑)使其具有感光性的光致抗蝕劑涂敷工序；將預(yù)先描畫了圖案的掩膜覆蓋在晶片上，從掩膜上方照射使光致抗蝕劑曝光的光束，從而印成與掩膜所描畫的圖案相同的曝光工序；相當(dāng)于在顯影液中僅除去抗蝕劑的感光部分再浸入蝕刻液...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。