技術(shù)編號(hào):4840754
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及水處理領(lǐng)域,尤其涉及一種超純水防靜電裝置。 背景技術(shù)在半導(dǎo)體元件制造過(guò)程中,最頻繁的工藝步驟就是晶片清洗。晶片清洗的目的就是為了 去除附著于晶片表面上的有機(jī)化合物、金屬雜質(zhì)或微粒。在清洗過(guò)程中,要大量使用高純度 的去離子水清洗晶片,清洗用的去離子水純度越高,水中的雜質(zhì)就越少,對(duì)半導(dǎo)體芯片帶來(lái) 的損害就越小。因此,在半導(dǎo)體芯片制造領(lǐng)域,通常使用的去離子水純度都很高,其電阻率 一般都在15MQ . cm以上,甚至達(dá)到18MD cm以上。但是,...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。