技術(shù)編號：4831974
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及廢水處理領(lǐng)域，特別涉及一種廢水處理加藥裝置。技術(shù)背景在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，二氧化硅(Si02)層以其高效的電絕緣性能以及穩(wěn)定性 (常溫下只與氫氟酸發(fā)生反應(yīng))而成為使用最廣的絕緣介質(zhì)，但Si02層只有通過氫氟酸才能去除，故在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中會產(chǎn)生大量的含氫氟酸的廢水需要處理。氫氟酸在水中水解為氫離子(/r )和氟離子(廣)，/r極易通過添加 堿性物質(zhì)(例如燒堿NaOH)來進行中和。但是對尸-的去除只能通過在含廣的廢 水中添加氯化釣(CaCh)溶液生成氟...
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