技術(shù)編號(hào)：4824239
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，特別是指將TFT-IXD基板上經(jīng)顯影后的光刻膠除去的。背景技術(shù)隨著國(guó)內(nèi)電子制造產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，光刻膠剝離液等電子化學(xué)品的使用量也大為増加。通常在印刷電路板，液晶顯示面板，半導(dǎo)體集成電路等エ藝制造過(guò)程中，需要通過(guò)多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等エ序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路，形成微電路之后，進(jìn)ー步用光刻膠剝離液(stripper)將涂覆在微電路保護(hù)區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。エ業(yè)上所使用的光刻膠剝離液主要是有機(jī)胺和極性有機(jī)溶劑的組合...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。