技術(shù)編號：46620
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本實用新型提供了一種用于射束整形體的屏蔽裝置，所述屏蔽裝置包括屏蔽體，密閉空間，該密閉空間包圍射束整形體中能產(chǎn)生的有害物質(zhì)的構(gòu)件，以防止所述有害物質(zhì)逸出該密閉空間；所述屏蔽裝置還包括負(fù)壓裝置和有害物質(zhì)收集裝置以進(jìn)一步抑制有害物質(zhì)逸出；為了防止屏蔽裝置對射束整形體中超熱中子射束的影響，屏蔽體的厚度采用5mm以下的鉛單質(zhì)或鉍單質(zhì)。本實用新型提供的技術(shù)方案的有益效果是在最小限度地影響超熱中子射束的情況下有效抑制射束整形體內(nèi)的有害物質(zhì)逸出。專利說明用于射束整形體的屏蔽裝置技術(shù)領(lǐng)域[0001]本實用新型提供了一種屏蔽...
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