技術(shù)編號：4641952
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種多晶硅氫生產(chǎn)的裝置，主要涉及多晶硅氫還原。背景技術(shù)在多晶硅生產(chǎn)中，還原爐是其主要設(shè)備，而還原爐的進(jìn)氣噴口是 多晶硅氫還原爐的極重要組成元件，他的噴口噴速和分布對硅棒的生 長和沉積狀況有著重大影響?，F(xiàn)有技術(shù)中，多晶硅氫還原爐大多采用 固定截面積噴口，這種結(jié)構(gòu)在對硅棒最終直徑要求較小時，缺陷并不 突出，但當(dāng)對硅棒最終直徑要求較大時缺陷就比較明顯，這時由于還 原爐的后期的進(jìn)氣需要量比初期進(jìn)氣需要量差距很大，相差大約為10-20倍，因此固定截面積...
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