技術(shù)編號：4455170
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。背景技術(shù) 本公開涉及聚合表面的壓花方法，以及由此形成的制品。光、磁和磁光記錄介質(zhì)是高性能存儲技術(shù)的主要來源，兼?zhèn)涓叽鎯θ萘亢秃侠淼某杀?兆字節(jié)存儲量。這種類型的介質(zhì)一般包括用聚合物膜覆蓋的基材。能夠?qū)⒛夯?，例如用來提供凹點、凹槽、粗糙度、位組合模式、伺服圖形和邊緣特征。所需的表面質(zhì)量還能夠被壓花，例如用來獲得所需的平滑度、粗糙度、平整度、微波紋度和紋理，例如用于磁晶粒取向的微紋理。壓花表面特征能夠具有至多大約200納米(nm)的深度。能夠生產(chǎn)更深的特征或...
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