技術(shù)編號：4439434
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開了一種，屬于材料工程。背景技術(shù) 磨損是影響微型機電系統(tǒng)及磁存儲系統(tǒng)長期穩(wěn)定運行的重要因素，研制一種可實用的薄膜是解決這一問題的重要途徑。目前，業(yè)界對此問題的解決方案主要集中在對分子自組裝薄膜、LB(Langmuir——Blodgett)膜以及這兩種薄膜的復(fù)合研究上，而這兩種薄膜的耐磨性比較差，所以研制一種具有良好耐磨性能的分子薄膜具有非常重要的實用意義。90年代以來，有人以分子沉積的方法制備了多種復(fù)合膜，也曾用于摩擦學方面的研究，但由于耐磨性較差...
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