技術(shù)編號：4168949
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及襯底載具，且具體而言涉及處理器載具及運輸器具，更具體而 言涉及光罩容器。背景技術(shù)光刻法是在半導(dǎo)體應(yīng)用中處理硅晶片時常常遇到的其中一個工藝步驟。在 光刻法中，在沉積有氮化硅的晶片表面上涂覆感光性液體聚合物或光阻劑，并 隨后使用帶有所期望圖案的模板使晶片表面選擇性地曝光至輻射源。通常，使 紫外光照射過掩膜或光罩或從所述掩膜或光罩的表面上反射，以將所期望圖案 投影至覆蓋有光刻膠的晶片上。經(jīng)過曝光的光刻膠部分會發(fā)生化學(xué)改性，并在 隨后使晶片經(jīng)受化學(xué)媒體的...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。