技術(shù)編號：40903
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。專利摘要本實用新型涉及一種化學(xué)機械研磨裝置，包括壓板和研磨層，所述壓板具有承壓面和接觸面；所述研磨層具有在研磨漿料存在的條件下對基片表面進(jìn)行研磨的研磨面，以及與所述壓板接觸面相粘結(jié)的非研磨面；所述研磨層包括從所述研磨層的研磨面延伸至所述壓板承壓面的中心通孔，與該中心通孔相連的螺旋凹槽，以及從所述螺旋凹槽向所述研磨面邊緣延伸的輻射凹槽；其中，在所述壓板上具有與所述中心通孔連通的研磨漿料進(jìn)口。本實用新型所述的化學(xué)機械研磨裝置，可以用于光學(xué)玻璃或樹脂鏡片，半導(dǎo)體硅或二氧化硅基片，以及其它電子器件所采用的介質(zhì)材料基片或金屬...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。