技術(shù)編號：40403523
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，尤其是一種失效定位方法以及失效分析方法。背景技術(shù)、失效分析是半導(dǎo)體工藝研發(fā)和良率提升的重要組成部分，失效定位在失效分析過程中起到至關(guān)重要的作用，目前半導(dǎo)體行業(yè)中常用的失效定位手段主要有熱發(fā)射顯微鏡(thermal)、光子輻射顯微鏡(emmi)、光致阻值改變顯微鏡(obirch)、電子束致阻值改變顯微鏡(ebirch)等。納米探針臺(nano?prober)是集成了掃描電子顯微鏡(scanningelectron?microscope，sem)的納米探針系統(tǒng)，可對集成電...
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