技術(shù)編號(hào)：40399844
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光刻機(jī)領(lǐng)域，尤其涉及一種背面套刻精度驗(yàn)證及套刻誤差補(bǔ)償方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)、現(xiàn)有的背面套刻驗(yàn)證方法是將硅片正面(已有標(biāo)記)朝下，通過背面對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)準(zhǔn)后，在硅片背面涂膠曝光，使硅片正反面均有標(biāo)記。通過套刻儀紅外線穿透硅片的方案，識(shí)別正反面圖案，讀取套刻后的誤差。、可以看出，現(xiàn)有技術(shù)需要硅片正反兩面兼涂膠曝光，并需要專業(yè)設(shè)備套刻儀來讀取套刻誤差。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本發(fā)明的主要目的在于解決現(xiàn)有技術(shù)中需要專業(yè)設(shè)備套刻儀來讀取套刻誤差的技術(shù)問題，本發(fā)明使用的背面套刻驗(yàn)證的方法簡單高效并及時(shí)，且...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。