技術(shù)編號:40391025
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本技術(shù)涉及鍍膜設(shè)備,特別涉及一種蒸鍍用光學(xué)鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)、真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。、現(xiàn)有的鍍膜設(shè)備在操作臺上工作時,鍍膜設(shè)備內(nèi)部的氣壓會逐漸增大,為避免氣壓過大造成的設(shè)備爆炸引起的安全事故,通常會使用防護(hù)裝置對鍍膜設(shè)備進(jìn)行防護(hù),然而,現(xiàn)有的防護(hù)裝置一般采用防爆材質(zhì)的防爆蓋,其在使用過程中一般需要操作人員從別處人工拿取,并在放置過程中需要比對鍍膜設(shè)備的大小和位置進(jìn)行合理的放置遮蓋,以免防護(hù)效果不...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。