技術(shù)編號：40363521
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種基于自組裝掩膜的高深寬比微納米針尖陣列及其制備方法，屬于微納加工。背景技術(shù)、現(xiàn)有技術(shù)中的微納加工主要是利用光刻、濕法腐蝕、干法刻蝕、電解沉積等技術(shù)，對微米尺度、納米尺度的材料進(jìn)行加工和制造?，F(xiàn)有技術(shù)的微納米針尖陣列的制備往往存在工藝流程繁瑣、成本較高等問題。、cnb公開了一種可調(diào)控高度比例的高深寬比微結(jié)構(gòu)的制備方法。該方法包括以下步驟：首先對襯底低轉(zhuǎn)速旋涂一層光刻膠，通過激光直寫設(shè)備進(jìn)行非均勻劑量的灰度曝光并進(jìn)行顯影；隨后對多級高度的光刻膠柱進(jìn)行第一次刻蝕，刻...
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