技術(shù)編號(hào)：40322712
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及晶圓生產(chǎn)設(shè)備，具體為一種桌面式快速退火爐。背景技術(shù)、半導(dǎo)體材料在晶體生長(zhǎng)和制造過(guò)程中，由于各種原因，晶體會(huì)出現(xiàn)缺陷、雜質(zhì)等結(jié)構(gòu)性缺陷，導(dǎo)致晶格不完整，施加電場(chǎng)后的電導(dǎo)率較低；通過(guò)快速退火爐處理后，可以使材料得到修復(fù)，消除硅片中的應(yīng)力。、現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的退火爐，升溫速度慢，且在熱處理過(guò)程中對(duì)產(chǎn)品加熱不均勻，由于加熱不均勻可能導(dǎo)致產(chǎn)品在熱處理過(guò)程中容易裂開或者損壞。技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路、本發(fā)明的目的在于提供一種桌面式快速退火爐，以解決上述背景技術(shù)中提出的現(xiàn)有技術(shù)中常規(guī)的退火爐，升溫速度慢，且...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。