技術(shù)編號：40303031
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請涉及微納制造，尤其涉及一種光學表面納米錐結(jié)構(gòu)的制備方法及納米錐結(jié)構(gòu)。背景技術(shù)、納米錐結(jié)構(gòu)因其在寬帶和大接受角減反射方面的優(yōu)異性能，在多個領(lǐng)域具有廣泛的應用前景，包括光學窗口、光伏、顯示面板和激光設(shè)備等。在光學元件表面制備納米錐結(jié)構(gòu)能夠顯著減少表面反射，提高光透射率，從而提升設(shè)備的整體效率和性能。、相關(guān)技術(shù)中的自掩模等離子體刻蝕、掩模引導等離子體刻蝕等方式，能夠在基底表面直接刻蝕出納米錐結(jié)構(gòu)。但是，目前納米錐的制備方法大多聚焦于在平面窗口片、球形整流罩等具有簡單幾何形狀表面的光學元件上，...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。