技術(shù)編號(hào):3803808
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及半導(dǎo)體(單晶片工藝(ウエハエ程)、曝光用掩膜制備工藝)、液晶設(shè)備制備技術(shù)中制作涂膜中使用的成膜方法和成膜裝置。背景技術(shù) 在石印術(shù)工藝中以前一直使用的旋轉(zhuǎn)涂布法,由于是將滴到基板上的液體大部分排出基板以外,用殘留的百分之幾成膜,使用的藥液浪費(fèi)大,由于排出的藥液很多,對(duì)環(huán)境也會(huì)產(chǎn)生惡劣的影響。另外,在方形基板或300mm以上的大口徑圓形基板上,在基板外周部分會(huì)產(chǎn)生湍流,產(chǎn)生在這些部分膜厚不均勻的問(wèn)題。作為不浪費(fèi)藥液在基板上全面均一涂布的方法,特開(kāi)平2...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。