技術(shù)編號(hào)：3751688
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種金屬材料的化學(xué)蝕刻用組合物及其制備工藝，具體涉及用于制備液晶顯示器/屏(IXD)、等離子顯示器/屏(PDP)、場(chǎng)致發(fā)射器/屏(FED)、有機(jī)發(fā)光二極管顯示器/屏(0LED/PLED)等行業(yè)用作面板過程中氧化銦錫層蝕刻的新型王水系蝕刻液及制備方法。背景技術(shù)銦錫氧化物(ITO)導(dǎo)電膜具有電阻率低，透光性好，高溫穩(wěn)定性好及制備和圖形加工工藝簡(jiǎn)單等諸多優(yōu)點(diǎn)，是一種理想的透明電極材料，被廣泛應(yīng)用于IXD、PDP、FED、OLED/PLED等平板顯示器上...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。