技術(shù)編號：3730680
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及研磨液組合物和在調(diào)配該研磨液組合物中使用的研磨粒子調(diào)配液及它們的制造方法，以及涉及使用該研磨液組合物的基板的制造方法。背景技術(shù)在近年的存儲硬盤驅(qū)動裝置中，要求高容量和小型化，為提高記錄密度，要求降低磁頭的浮動高度，減小單位記錄的面積。因此，在磁盤用基板的制造工序中，對研磨后的表面質(zhì)量要求也一年比一年嚴格。作為降低磁頭浮動高度的對策，必須減小基板的表面粗糙度、微觀波紋度、端面下垂(roll-off)以及突起；作為減少單位記錄面積的對策，每個基板面的...
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