技術(shù)編號：3691536
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于光刻法的頂端抗反射涂料聚合物，一種制備該抗反射涂料聚合物的方法及含有該抗反射涂料聚合物的抗反射涂料組合物，其中該光刻法是半導(dǎo)體器件制造方法中的一種。更具體地說，本發(fā)明涉及一種可用于浸沒式光刻的頂端抗反射涂料聚合物，一種制備該抗反射涂料聚合物的方法及含有該抗反射涂料聚合物的抗反射涂料組合物，其中該浸沒式光刻用于制造亞-50納米的半導(dǎo)體器件。背景技術(shù) 光刻法是一種用于將光罩上所形成的半導(dǎo)體電路圖樣轉(zhuǎn)移至晶片的方法，而且它是決定半導(dǎo)體器件制造中...
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