技術(shù)編號(hào)：3690417
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及在制造半導(dǎo)體等電子零件和微型機(jī)器等三維微細(xì)結(jié)構(gòu)物時(shí)的微細(xì)加工中，可以適宜地用作光敏抗蝕劑的化學(xué)放大型放射線敏感性樹脂組合物及其制造法以及使用其的半導(dǎo)體裝置的制造方法。背景技術(shù) 以往，在制造半導(dǎo)體等電子零件和三維微細(xì)結(jié)構(gòu)物時(shí)的微細(xì)加工中，一般利用光刻法。在光刻法中，為了形成抗蝕劑圖案而使用正型或負(fù)型的放射線敏感性樹脂組合物。在這些放射線敏感性樹脂組合物中，作為正型光敏抗蝕劑，廣泛使用著例如由堿可溶性樹脂與感光性物質(zhì)苯醌二迭氮化合物組成的放射線敏感性...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。