技術編號：3556857
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種酸發(fā)生劑、磺酸、磺酸衍生物和輻射敏感樹脂。本發(fā)明尤其涉及適用于輻射敏感樹脂組合物的光致酸發(fā)生劑，該組合物作為化學放大抗蝕劑用于使用多種類型輻照的微加工，所述的輻射是例如深紫外線，諸如KrF受激準分子激光、ArF受激準分子激光、F2受激準分子激光，或EUV(極遠紫外光extreme ultraviolet)，X-射線，諸如同步輻射，或帶電粒子射線，諸如電子束；還涉及由所述酸發(fā)生劑生成的磺酸、用作合成所述產(chǎn)酸劑的原料或中間體的磺酸衍生物、以及含有...
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