技術(shù)編號：3506230
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及作為光聚合引發(fā)劑而有用的新型化合物以及含有該新型化合物的放射線敏感性組合物。背景技術(shù)放射線敏感性組合物由于可以通過涂布工藝大量且容易地形成固化物，該固化物的微細加工也容易等優(yōu)點，所以除了作為液晶裝置、半導體裝置制作用材料等以外，還廣泛用于光固化性油墨、感光性印刷版等中。這種放射線敏感性組合物代表性包含具有乙烯基不飽和鍵的聚合性化合物以及光聚合引發(fā)劑。在上述固化物形成工藝中，可以通過將該放射線敏感性組合物涂布到玻璃基板等上形成覆膜，接著通過具有水銀...
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