技術(shù)編號：3469750
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及，特別是涉及通過由氧化硅膠選擇性地濃縮臭氧化氧氣體(臭氧吸附)使?jié)饪s的臭氧氣體化，生成高濃度 的臭氧的。背景技術(shù)近年來，臭氧利用在用于半導(dǎo)體裝置的用于氧化膜形成的臭氧氧化、硅片的臭氧 洗凈、上下水處理等多方面的目的。硅片的臭氧氧化，因?yàn)橐蟾咂焚|(zhì)的氧化膜，所以要求 高純度且高濃度的臭氧化氣體。另外，臭氧洗凈是將在純水中溶解了臭氧化氣體的臭氧水作為洗凈液使用的，通 過與稀氟酸水溶液等并用，去掉硅片上的有機(jī)物、重金屬。在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中，為了實(shí)現(xiàn)更高...
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