技術編號：3447860
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。一種提純氣體的裝置涉及提純氣體的裝置。背景技術在鈦、鎬、高純合金生產(chǎn)以及真空熔鑄過程中，采用惰性氣體為保護氣體，特別是在高純鈦、鎂、原子能級的鋯、合金以及真空熔鑄過程中。在市售的惰性氣體中含有少量的雜質氣體(如氧氣、氫氣、水等)，在生產(chǎn)過程中雜質氣體在高溫下與生產(chǎn)的金屬進行反應(在實際生產(chǎn)中，控制溫度大于1000°C)，從而降低產(chǎn)品的品質，為了得到高品質的產(chǎn)品減少從保護氣體帶入的雜質的含量，要求保護氣體和原料的雜質含量盡量的少，特別是部分雜質直接影響產(chǎn)品的...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。